Benutzer: Gast  Login
Autor(en):
ENSSLEN, K; VEPREK, S
Titel:
DOMINANT REACTION CHANNELS AND THE MECHANISM OF SILANE DECOMPOSITION IN A H2-SI(S)-SIH4 GLOW-DISCHARGE
Zeitschriftentitel:
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
Jahr:
1987
Band / Volume:
7
Heft / Issue:
2
Seitenangaben Beitrag:
139-153
 BibTeX